NI-2006HSX 是氨基磺酸鹽型鍍鎳工藝,可產(chǎn)生低應力的,半光亮的,延展性的鎳鍍層。本工藝尤其適用于作為貴金屬和非貴金屬電鍍的底層。它專門用于可溶性陽極體系的高速電鍍設(shè)備。
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