在光照下，如果光子的能量大于半導體禁帶寬度，其價帶上的電子（e-）就會被激發(fā)到導帶上，同時在價帶上產(chǎn)生空穴（h+）。當存在合適的俘獲劑、表面缺陷或者其他因素時，電子和空穴的復合得到抑制，就會在催化劑表面發(fā)生氧化還原反應。價帶空穴是良好的氧化劑，導帶電子是良好的還原劑，在半導體光催化反應中，一般與表面吸附的H2O、O2反應生成.OH和超氧離子O2-，能夠把各種有機物直接氧化成CO2和H2O等無機小分子，電子也具有強還原性，可以還原吸附在其表面的物質。激發(fā)態(tài)的導帶電子和價帶空穴能重新合并，并產(chǎn)生熱能或其他形式散發(fā)掉。

光催化的技術特征：

1）低溫深度反應

光催化氧化可以在室溫下將空氣中的有機污染物氧化。

2）綠色能源

光催化可利用太陽光作為能源來活化光催化劑，驅動氧化還原反應，而且光催化劑在反應中并不消耗。從能源角度而言，這一特征使光催化技術更具優(yōu)勢。

3）氧化性強

大量研究表明，半導體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有機物都能有效地加以分解。

4）壽命長

理論上，光催化劑的壽命是無限長的。

5）廣譜性

光催化對從烴到墻酸的眾多種類有機物都有氧化效果，美國環(huán)保署公布的九大類114中污染物均被證實可通過光催化氧化法降解。

UV光解廢氣除臭設備的應用范圍非常廣泛，可以應用在很多的行業(yè)上，比如說用鞋廠、造紙廠等行業(yè)，這樣我們就可以省下不少的麻煩，同時提高我們的生產(chǎn)效率，那么用UV光解廢氣除臭設備的技術是怎樣的那？下面就由我來為您介紹一下，您可以來簡單的了解一下。

UV光解廢氣除臭設備主要是采用高能UV紫外線，在UV光解廢氣除臭設備內，裂解氧化惡臭物質分子鏈，改變物質結構，將高分子污染物質裂解、氧化為低分子無害物質，其脫臭效率可達99%。

脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭物質排放標準，能處理氨、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯、二硫化碳、、二二硫醚等高濃度混合氣體，內部光源可使用三年，設備壽命在十年以上，UV光解廢氣除臭技術可靠且非常穩(wěn)定，UV光解廢氣除臭設備無須日常維護，只需接通電源即可正常使用，且運行成本低，無二次污染。