產(chǎn)品概述：

PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區(qū)高溫式爐三個(gè)數(shù)字溫度控制器可獨(dú)立控制溫度，并可設(shè)置30段升降溫程序，溫區(qū)1（加熱區(qū)中心）采用硅鉬棒加熱，另外兩個(gè)溫區(qū)用硅碳棒進(jìn)行加熱，此款管式爐可以形成一個(gè)溫度梯度，調(diào)整三個(gè)溫區(qū)的溫度，在熱梯度下制備功能材料，同時(shí)也適用于CVD法制作薄膜外延生長(zhǎng)。爐體采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風(fēng)冷系統(tǒng)，使得殼體的表面溫度小于60度，爐膛的保溫材料采用高純氧化鋁，環(huán)保節(jié)能，可以減少熱量的損失，內(nèi)爐膛表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時(shí)也可以延長(zhǎng)儀器的使用壽命。

適用范圍：

PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區(qū)真空氣氛管式爐主要應(yīng)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等。