拋光的過程有2個，即“干拋光與濕拋光”，拋光磨石在“干與濕”之間當石材產品發(fā)生物理化學作用，干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發(fā)，導致拋光磨石濃度增大，從而達到強化效果，產品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達85度以上或更高。

拋光磨石在被加工產品上拋光，待拋光產品燙手后，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續(xù)加水或大量加水，否則，水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果，也不能全部使用干拋光，過高的溫度會燒壞板面，而且會使板面出現(xiàn)裂紋。

一般而言，產品精磨后，產品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨后達不到上面的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類產品精磨后的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產品在拋光“干與濕”，溫度的升高，降溫中，強化拋光過程，發(fā)生物理化學反應，產品在經過“干拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達95度以上。

巴西棕櫚蠟乳液是采用新型的乳化技術以巴西棕櫚蠟為主要原料生產的技術含量高的產品。巴西棕櫚蠟乳液廣泛用于制造皮革涂飾劑、水性油墨、水性油漆、水性涂料、上光劑（自亮型皮鞋油、皮夾克油、汽車蠟、地板蠟、家俱上光蠟）、水果保鮮、及塑料和橡膠潤滑劑等領域。

至于中溫固化劑和高溫固化劑，則要以被著體的耐熱性以及固化物的耐熱性、粘接性和耐藥品性等為基準來選擇。選擇重點為多胺和酸酐。由于酸酐固化物具有優(yōu)良的電性能，所以廣泛用于電子、電器方面。

氧化硅拋光液

氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。

廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。