uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

工作原理

uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

兆星uv光催化氧化設(shè)備特點(diǎn)

一、除惡臭:能去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率更高可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).

二、無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

三、適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

四、運(yùn)行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，(每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能)，設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。

五、無需預(yù)處理:惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間，濕度在30%-98%、PH值在2-13之間均可正常工作。

六、設(shè)備占地面積小，自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

應(yīng)用范圍

uv光催化氧化設(shè)備適用范圍:煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。