一般情況來說，汽車封釉后還需要注意一些問題，而這些問題又特別容易忽略： 1、封釉后8小時內(nèi)切記不要用水沖洗汽車，因為在這段時間內(nèi)，釉層還未完全凝結(jié)將繼續(xù)滲透，沖洗將會沖掉未凝結(jié)的釉。 2、做完封釉美容后可盡量避免洗車，因為產(chǎn)品可防靜電，因此一般灰塵用干凈柔軟的布條擦去即可。 3、做了封釉美容后不要再打蠟，因為蠟層可能會粘附在釉層表面，再追加上釉時會因蠟層的隔離而影響封釉效果。 4、由于釉的不同，再加上路況和環(huán)境的影響，一般是2個月到半年封一次釉效果。

地坪拋光液的施工方法： 利用拖把、刮刀、軟毛刷或滾筒等涂刷均勻，待地面將光亮劑吸收（約20分鐘）后，再用軟性物擦拭表面或者用拋光機拋光（采用白色羊毛纖維墊），直至光亮度表現(xiàn)出來為止。拋光完成后，即可上人，氣溫較低時，間隔時間需要適度延長。

拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。 拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。

依據(jù)機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎(chǔ)理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程。

氧化鋁和碳化硅拋光液 是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。 主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

氧化鈰拋光液 氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。 適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。