X射線光電子能譜分析儀是采用X射線輻射樣品，使原子或分子的內(nèi)層電子受激發(fā)射出來，這是一種XPS表面分析的方法，這種光電子用來測量其能量和數(shù)量，以獲得待測物組成。

XPS主要應用是測定電子的結合能來鑒定樣品表面的化學性質(zhì)及組成的分析，其特點在光電子來自表面10nm以內(nèi)，僅帶出表面的化學信息，具有分析區(qū)域小、分析深度淺和不破壞樣品的特點，廣泛應用于金屬、無機材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的研究，以及腐蝕、摩擦、潤滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研究。

使用X射線光電子能譜分析儀（XPS）的注意事項

（1）樣品規(guī)格盡量限制在11×1×0.5cm，如果樣品尺寸過大，則需要切割取樣。

（2）取樣時，一定要避免用手和工具接觸需要測試的位置，等待取下樣品后，要使用真空包裝或者其他能隔離的保證，這樣可以避免外來的污染影響分析結果的準確性。

（3）使用X射線光電子能譜分析儀進行XPS測試時，其樣品可以噴不大于1nm的薄金，這里還需要注意的是，可以測試弱導電性的樣品，但不可以測試絕緣樣品。

（4）X射線光電子能譜分析儀進行XPS元素分析，其范圍在Li-U，X射線光電子能譜分析儀只能測試無機物質(zhì)，檢出限0.1%。

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