銦靶是指以銦為主要成分的濺射靶材，是一種在材料表面鍍膜過程中用于提供銦源的材料。在真空濺射鍍膜工藝中，銦靶材在高能粒子的轟擊下，銦原子被濺射出來并沉積在基底材料表面，形成所需的銦薄膜。

微觀結(jié)構(gòu)：銦靶晶粒尺寸一般需維持在 10-50 微米區(qū)間，密度高于 7.31g/cm3，熱導率保持在 81.8W/(m?K) 以上，這些技術(shù)參數(shù)直接決定了其在真空濺射過程中的沉積效率和薄膜質(zhì)量。

顯示技術(shù)領(lǐng)域：廣泛應用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板顯示器件中作為透明電極，確保顯示設(shè)備既能透光顯示圖像，又能導電傳輸信號。

觸控技術(shù)領(lǐng)域：電容式和電阻式觸摸屏中，ITO 作為電極材料，其透明性和導電性決定了觸控設(shè)備的靈敏度和視覺效果。